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水是重要的清洗剂，有着其它任何清洗剂无法替代的作用和地位。普通的水很容易从自然界中得到，水有很强的溶解力和分散力。但是水的表面张力大，在使用中需要添加表面活性剂，以减小表面张力，增加表面湿润性。在一般工业清洗中，酸，碱和水的配合比较常见，有些金属用水洗要加入防锈剂；在精密和超精密工业清洗中。大部分要求将水制成纯净水。通常以电阻率来衡量水纯度。半导体工业要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生产10MΩ/cm就可以了。

半水基型清洗剂也叫准水基型清洗剂，是由高沸点溶剂及活性剂等组成如醇类，有机烃类等。通常含有5%一20%的水分，一般不烧，但加温清洗时水含量控制不当，可能产生燃烧现象。半水基型清洗与溶剂洗有一些不同，它的清洗原理是剥离去除，而不是溶解。为了防止已经剥落的油污再附到被清洗物上，炉子清洗厂家，清洗液要连续地循环，并增加油水分离器。半水洗通常清洗效果很好，但运行成本较高，废液不能再生回收，重复使用，炉子清洗厂，含COD（化学耗氧量）较高，需要进行废水处理。

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目前使用多也发展快的是以表面活性剂为主，结合一些化工助剂的水基l金属清洗剂。应用该清洗剂进行电镀工艺前的除油处理，优点明显：基本无腐蚀性，可室温使用，泡沫少，洗净效果好，用量小、成本低，操作简便、无l毒、对环境无污染，并有相当的抗硬水能力，适用于机械清洗和人工清洗。

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